本發明公開了一種高體分鋁基碳化硅復合材料表面化學鍍鎳方法,首先對高體分鋁基碳化硅基材表面采用金屬/非金屬異種組分界面均一化活化處理,提高后續化學鍍鎳層在該基材表面的覆蓋性,隨后進行第一次化學鍍鎳,在基材表面獲得低應力化學鍍鎳層,再進行第二次化學鍍鎳,形成大厚度(可達80μm以上)、高致密的光學級化學鍍鎳層,最后通過階梯熱處理降低鍍層應力,提高鍍層與基體之間的結合力,最終獲得可應用于光學加工的高性能高致密光學級鍍層。
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