本發明公開了一種三氧化鉬和二硫化鉬復合材料的制備方法,該制備方法包括步驟如下:選取基底片,清洗選取的基底片,以三氧化鉬粉末為生長源,利用物理氣相沉積的方法,以清洗干凈的基底片為基礎制備三氧化鉬納米片,得到三氧化鉬納米片;以得到的三氧化鉬納米片作為基片,以硫粉作為硫源,利用化學氣相沉積法高溫硫化制備三氧化鉬和二硫化鉬復合材料,得到三氧化鉬和二硫化鉬復合材料。本發明的三氧化鉬和二硫化鉬復合材料的制備方法簡單易行。本發明制備的三氧化鉬和二硫化鉬復合材料可實現在可見光區域的光催化響應,大大提高了太陽光的利用率。兩種材料之間能帶匹配,可以實現光生電子空穴的有效分離,從而復合材料表現出較高的光催化效率。
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“三氧化鉬和二硫化鉬復合材料的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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