本發明公開了一種新型雙層磁性絕緣硅復合材料及其制備方法,包含由磁性層和絕緣層組成的中間層;所述中間層的上表面和下表面分別設置有單晶硅片;所述絕緣層,包含二氧化硅基多元復合材料層;所述二氧化硅基多元復合材料層的上表面設置有磁性層;所述磁性層的上表面設置有第一二氧化硅膜層;所述二氧化硅基多元復合材料層的下表面設置有第二二氧化硅膜層;本發明的新型雙層磁性絕緣硅復合材料具有完整的單晶硅晶格結構,所述磁性層和絕緣層的各組分的厚度和深度分布可調,制成的產品同時具有電學和磁性性能,且性能優良,不需采用復雜昂貴設備,整體制備工藝簡單、易行、低成本。
聲明:
“新型雙層磁性絕緣硅復合材料及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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