本申請公開了一種流體處理裝置及其制備方法。所述流體處理裝置包括:具有第一流體通道的基體;彼此間隔的若干凸起部,所述凸起部沿橫向在該基體的第一表面上連續延伸,其上部設有帽形結構,所述帽形結構的相背對的兩側部沿側向外延,而相鄰帽形結構之間形成有可供流體通過的開口部,其中至少兩個凸起部分別設于第一流體通道的流體入口兩側,至少一凸起部直接從第一流體通道的流體入口上通過,從而使這些帽形結構、凸起部與基體之間配合形成第二流體通道,待處理的流體僅能通過第二流體通道進入第一流體通道。本申請的流體處理裝置具有通量大、流阻小、能高效清除流體中微/納米級顆粒等特點,可重復使用,使用壽命長,且適于規?;笈可a。
聲明:
“流體處理裝置及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)