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雙位多靶離子束沉積裝置

998   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-18 15:09:02
本實用新型公開一種雙位多靶離子束沉積裝置，包括機架、真空鍍膜室、激光器、主離子源、輔離子源、旋轉靶座和基片架，真空鍍膜室裝設于機架上，主離子源、旋轉靶座和基片架均設于真空鍍膜室內，基片架夾設有基片，主離子源和旋轉靶座均為兩個，一個旋轉靶座上安裝有四種不同的靶材，基片架的中心線與兩旋轉靶座的中心線相互重疊，兩主離子源分設于基片架的兩側，主離子源的發射口對準旋轉靶座，輔離子源設置于真空鍍膜室下方，輔離子源的發射口對準基片，真空鍍膜室設有石英窗，激光器發出的激光束穿過石英窗射入靶材上。本實用新型能同時鍍兩種材料，形成合金材料，能實現新型理想的功能材料，提高鍍膜質量，提高沉積效率。
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聲明：
“雙位多靶離子束沉積裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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