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硅基碳化硅薄膜材料制備方法

1168   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-18 15:08:02
本發明涉及信息功能材料制備領域，特別涉及一種硅基碳化硅薄膜材料制備方法，包括：將第一碳化硅晶圓和第二碳化硅晶圓鍵合形成第一鍵合結構；對所述第一鍵合結構進行退火處理，沿所述第一碳化硅晶圓的缺陷層剝離部分所述第一碳化硅晶圓；在第一碳化硅晶圓上外延生長第一純度的碳化硅外延層，所述碳化硅外延層表面形成有第三鍵合介質層；將所述第一鍵合結構和硅襯底鍵合形成第二鍵合結構；面向所述第二碳化硅晶圓切割至所述第一鍵合介質層，去除所述第二碳化硅晶圓和所述第一碳化硅晶圓，暴露所述碳化硅外延層，得到硅基碳化硅薄膜材料。本發明解決了碳化硅薄膜制備技術中單晶質量差、無法通過傳統薄膜沉積異質外延、薄膜均勻性差的技術問題。
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