本發明涉及一種單孔中空硼親和印跡聚合物的制備方法和應用,尤其涉及蒸餾?沉淀聚合制備單孔中空硼親和分子印跡聚合物的方法,屬于生物醫藥功能材料制備技術領域;本發明專利首先通過DPP利用4?乙烯基苯硼酸單體引發聚合包覆在羧基封端的聚苯乙烯球模板表面;此外,在DPP的過程中,伴隨的微相分離效應和殼材料的對稱體積收縮誘導了聚合物殼中孔的產生,通過THF蝕刻帶孔的聚合物殼即可獲得單孔中空硼親和印跡聚合物;然后將單孔中空硼親和印跡聚合物密封在透析袋中用于選擇性分離純化LTL;本發明制備的單孔中空硼親和印跡聚合物克服了現有常見分子印跡吸附劑對LTL吸附分離動力學低、飽和容量小和選擇性差等問題。
聲明:
“單孔中空硼親和印跡聚合物的制備方法和應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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