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基于雙重連續印跡體系制備仿生MOFs基雙層分子印跡納米復合膜的制備方法及其用途

913   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-18 15:06:02
本發明屬功能材料制備技術領域，涉及一種基于雙重連續印跡體系制備仿生MOFs基雙層分子印跡納米復合膜的制備方法；步驟為：首先合成UiO?66顆粒，利用多巴胺自聚?復合印跡技術，以四環素為模板分子，制備聚多巴胺基印跡UiO?66，并將其用作膜負載材料，結合相轉化手段制備UiO?66基納米復合印跡膜；最后以四環素為模板分子，氨丙基三乙氧基硅烷和正硅酸四乙酯為功能單體和交聯劑，基于溶膠凝膠印跡方法，制備得到仿生MOFs基雙層分子印跡納米復合膜；本發明制備的復合膜解決了現有四環素分子印跡聚合物所存在的難回收、易產生二次污染等不足，并拓寬膜分離材料的應用領域。
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