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基于雙重共價的后修飾表面印跡聚合物的制備方法及其選擇性分離單磷酸腺苷的應用

1231   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-18 15:06:02
本發明屬于分子辨識吸附分離功能材料制備技術領域，公開了一種基于雙重共價的后修飾表面印跡聚合物的制備方法及其選擇性分離單磷酸腺苷的應用。本發明將以介孔二氧化硅納米片作為基底，通過表面印跡和雙重共價結合位點PIM策略，利用二元功能單體的雙重共價作用固定模板分子取向，制備雙位點表面印跡后修飾復合吸附劑D?PMIPs，并用于選擇性分離AMP。為了最大化的提高AMP分子的結合作用和選擇性，選擇和設計匹配的功能單體，通過合成與其匹配的雙硫鍵單體和具有親和功能雙硫鍵化合物，利用二元功能單體組裝和固定模板分子取向，探索雙位點結合位點PIM策略在介孔二氧化硅納米片表面修飾印跡識別位點，實現AMP的選擇性分離。
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“基于雙重共價的后修飾表面印跡聚合物的制備方法及其選擇性分離單磷酸腺苷的應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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