本發明公開了一種高吸收高發射率超黑分子吸附涂層的制備方法,屬于超黑材料技術領域。本發明解決現有以沸石分子篩為功能材料的分子污染吸附器存在重量、尺寸大及安裝位置不靈活、吸收面積不夠廣的問題。本發明以大比表面積的炭黑和沸石粉為核,利用原子層沉積技術制備的超薄氧化物膜層為殼的功能粉體作為填料,將其與低揮發的樹脂材料混合,涂覆固化后得到分子吸附涂層。該涂層的平均太陽吸收率為95%,半球發射率為91%,使表面層具有消除雜光的性能,且該涂層對鄰苯二甲酸脂、有機硅氧烷、正丁烯等有機氣體(VOCs)的吸附量≥17.58mg·g?1。該涂層具有優良空間環境適應性,可滿足航天器及衛星成像系統的應用要求。
聲明:
“高吸收高發射率超黑分子吸附涂層的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)