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柔性光電子器件的制備方法

1121   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-18 15:04:02
本發明公開一種柔性光電子器件的制備方法，該方法采用氧化鍺作為犧牲層，通過在氧化鍺層上沉積、圖案化多種功能材料層，采用水作為腐蝕液剝離襯底，得到柔性光電子器件。該制備方法因氧化鍺可承受高溫、承受等離子體轟擊，所以可以實現高質量光學薄膜在高溫條件下，在等離子體轟擊誘導條件下的沉積和退火優化，完成高性能柔性光電子器件的制備；且在整個柔性光電子器件制備過程中，氧化鍺遇水即溶，水作為腐蝕液最大可能避免了薄膜材料的損傷，保證了器件的完整性；本發明的方法可擴展到多種類光學材料柔性光電子器件，可以廣泛應用于集成光學器件、空間光學器件和電子元器件的制備。此外，該方法還可用于實現柔性多層波導集成器件。
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