本發明屬功能材料制備技術領域,涉及一種基于聚多巴胺基印跡策略的仿生抽濾型雙層分子印跡納米纖維復合膜的制備方法及應用;步驟為:以聚偏氟乙烯為基膜原料,利用其聚偏氟乙烯膜的多孔結構,在靜電紡絲過程中引入多巴胺分子,以聚多巴胺基四環素印跡GO&SiO2為納米復合抽濾層,最后結合抽濾過程,在膜表面構建聚多巴胺基四環素印跡層和聚多巴胺基四環素印跡GO&SiO2納米復合抽濾層,構建雙層分子印跡復合結構,最終得到仿生抽濾型雙層分子印跡納米纖維復合膜;本發明制備的復合膜構建兼具高選擇性、吸附容量及穩定性的四環素印跡位點,有效的解決了現有四環素分子印跡聚合物所存在的難回收、易產生二次污染等不足。
聲明:
“基于聚多巴胺基印跡策略的仿生抽濾型雙層分子印跡納米纖維復合膜的制備方法及應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)