本發明涉及一種形成結構的方法,其包括a)提供透明載體;b)在透明載體的第一側上形成彩色掩模;c)施加含有對可見光敏感的沉積抑制劑材料的第一層;d)通過用可見光透過彩色掩模對第一層曝光,將第一層圖案化以形成第一圖案,和將沉積抑制劑材料顯影以提供實際上不具有沉積抑制劑材料的第一層的選區;和e)在透明載體上沉積功能材料第二層;其中功能材料第二層基本上只被沉積在透明載體上不具有沉積抑制劑材料的選區內。
聲明:
“使用與選區沉積相結合的著色掩模的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)