本發明實施例提供了一種基于緩沖層進行深刻蝕的掩蔽方法,該方法包括:在襯底上形成功能材料層;在所述功能材料層上形成緩沖層;在所述緩沖層上涂敷一層抗蝕劑材料;對所述抗蝕劑材料進行平面曝光,在所述抗蝕劑材料上形成預設的微結構圖形;將抗蝕劑材料上的微結構圖形轉移到所述緩沖層上;將緩沖層上的微結構圖形深刻蝕到所述功能材料層上;去除抗蝕劑材料和緩沖層,獲得具有微結構圖形的功能材料。通過增加緩沖層保證對功能材料進行深刻蝕的質量。
聲明:
“基于緩沖層進行深刻蝕的掩蔽方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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