本實用新型公開了用于半導體功能材料表面缺陷調控的等離子體反應裝置,包括密封箱,所述密封箱的底部設置有底座,所述密封箱內腔的頂部和底部通過支撐桿分別設置有上部極板和下部極板,所述密封箱內腔的左側轉動連接有空心管,所述空心管的一端貫穿密封箱并轉動連接有進氣管,所述密封箱內設置有與空心管配合使用的輔助機構,所述密封箱的右側連通有總管,所述總管的右側連通有彎管,本實用新型利用輔助機構可使氣體更快的充滿密封箱的內部空間,同時轉動的第一連通架,可進一步攪動氣流,進一步加快了反應氣體的流動速度,提高了氣體的等離子反應效果,從而提高了對半導體功能材料表面缺陷的調控效果。
聲明:
“用于半導體功能材料表面缺陷調控的等離子體反應裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)