應用于單晶鑄造爐的結晶環(huán)

本發(fā)明提供了一種應用于單晶鑄造爐的結晶環(huán)，包含結晶盤(pán)和冷卻裝置，模殼放置在結晶盤(pán)上，所述冷卻裝置包含氣冷部和水冷部，所述氣冷部位于水冷部的上方，所述氣冷部輸出的惰性氣體環(huán)繞在所述模殼的四周，形成位于上部的氣冷區，所述水冷部環(huán)繞在所述模殼的外周，形成位于下部的水冷區，且所述氣冷區和所述水冷區之間形成預設的溫度梯度。本發(fā)明的應用于單晶鑄造爐的結晶環(huán)，由于配置了氣冷部和水冷部，對應形成了氣冷區和水冷區，且所述氣冷區和所述水冷區之間形成預設的溫度梯度，也即生成了非常高的溫度梯度，使得冷卻均勻且冷卻速度快，并有助于改進(jìn)拉單晶工藝，提高單晶葉片的產(chǎn)品生產(chǎn)率和性能。