本發明是關于一種奈米碳管的圖騰形成方法,是提供一種奈米碳管的圖騰形成方法制作高解析的圖騰化電子發射源層;利用可微影制程的負型光阻材料圖騰化制作高解析的蔭罩阻隔層,再以噴涂奈米碳管噴涂液形成奈米碳管層,接著以燒結過程移除蔭罩阻隔層并同時使圖騰化的奈米碳管層固著于陰極導電層以形成電子發射源層。依本發明方法實施的電子發射源層可滿足高解析圖騰的需求,并且以噴涂的制作奈米碳管層,其涂層厚度薄,電子產生效率與均勻性均高,從而更加適于實用。
聲明:
“奈米碳管的圖騰形成方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)