本發明涉及薄膜的物理制備技術領域,具體是一種共濺射旋轉靶材及其制備方法,其特征在于:包括旋轉圓柱靶管及中心靜止不動的磁鐵,所述旋轉圓柱靶管由不同形狀的摻雜成份靶材單元和本體成份靶材單元以不同的形式分布在圓筒形支撐襯底上,摻雜成份靶材單元和本體成份靶材單元兩者按照一定的排布規律分布。本發明將需要共濺射和共摻雜的靶材單元制作成不同的形狀,以不同的形式分布在圓筒形支撐襯底上,而圓筒形支撐襯底的中心放置靜止不動的磁鐵,慢速轉動實現磁控濺射,達到高均勻性共摻雜的目的,其靶材利用率也比較高。
聲明:
“共濺射旋轉靶材及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)