本發明涉及一種基于反卷積的雙光路光譜測量裝置,其特征在于該裝置設置為雙光路結構,一光路由目標物鏡、狹縫、準直鏡、分束鏡、色散元件、第一匯聚鏡頭和第一CCD相機依次組成,另一光路由分束鏡、第二匯聚鏡頭和CCD相機依次組成。本發明針對現有基于狹縫的光譜儀在弱光下探測能力受限的關鍵問題,采用一個更寬的狹縫來代替,以增加系統的光通過量,使其在弱光下有更好的探測能力,并通過計算未色散光的原像和色散后光的像的反卷積來獲取光源光譜。本發明廣泛應用于冶金、地質、化工、醫藥和環境等領域,特別適用于像生物醫學、夜視等弱光場合,應用范圍寬廣。
聲明:
“基于反卷積的雙光路光譜測量裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)