本發明公開一種對羥基扁桃酸還原合成對羥基苯乙酸的方法,其特征在于采用隔膜電解槽,以預鍍高析氫電位金屬鉛、錫或鋅的銅片作陰極,鉛、鉛合金或鈦基體二氧化鉛電極作陽極,陽離子交換膜作隔膜,0.5-2mol/L堿溶液加入0.2-2.0mol/L對羥基扁桃酸鈉和添加0.01-0.2mol/L堿金屬硼酸鹽作陰極液,控制陰極液溫度30-90℃和陰極電流密度100-1000A/m2進行電解還原,電解完成液經酸化、濃縮、冷卻、結晶、分離得到對羥基苯乙酸產品,收率97.0%,陰極電流效率86.8%。本方法在常溫常壓下進行,不消耗化學還原劑,還原反應收率高,幾乎沒有污染物產生,是一種綠色清潔生產工藝。
聲明:
“對羥基苯乙酸的電解合成方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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