一種圓筒狀射流態直接電沉積設備及使用其電積金屬的方法,其中設備包括外層陰極管、內層陽極管、進料液管和出料口,所述外層陰極管套設在所述內層陽極管之外;所述內層陽極管的一端密封,另一端與所述進料液管密封連通;所述外層陰極管靠近所述進料液管的一端與同一端的內層陽極管之間密封連接,所述外層陰極管的另一端連通所述出料口;所述內層陽極管上開設有連通所述外層陰極管和所述內層陽極管的陽極管壁小孔。本發明可在大規模電沉積生產中的應用,可實現自動化、連續化、大規?;I生產,又可實現礦石低品位,產出高品質,低投資成本、高產出、低能耗、低碳排放、低污染環境友好型新技術。
聲明:
“圓筒狀射流態直接電沉積設備及使用其電積金屬的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)