本發明局部蒸發去除多晶硅中硼的方法及裝置屬于用物理冶金技術提純多晶硅的技術領域,特別涉及一種利用電子束熔煉技術將多晶硅中的雜質硼去除的方法和裝置。該方法用電子束對石墨坩堝中的多晶硅進行局部熔煉,將液態硅蒸發到石墨坩堝上方的沉積板上,收集沉積在沉積板上多晶硅的方法;該裝置由真空蓋、真空圓桶構成裝置的外殼,真空圓桶的內腔即為真空室,真空室內裝有熔煉系統,熔煉系統由電子槍、石墨坩堝、水冷銅托盤組成。該方法工藝簡單,能耗低,環境污染小,提純精度高;技術穩定,有利于大規模生產。
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