權利要求
1.一種平面銅靶材的制備方法，其特征在于，包括：
步驟S1：制備高純無氧銅桿;
步驟S2：連續擠壓所述無氧銅桿以形成坯料，并在擠壓過程中對所述坯料進行防氧化保護;
步驟S3：待所述坯料冷卻至室溫后進行單道次低變形量拉拔操作，控制拉拔變形量為1.5%-3%，控制拉拔變形溫度在300℃-500℃;
步驟S4：重復上述步驟S2和步驟S3至少兩次;
步驟S5：對坯料進行矯直操作;
步驟S6：對坯料進行機加工操作，制成銅靶材。
2.根據權利要求1所述的平面銅靶材的制備方法，其特征在于，在步驟S2中，使用連續擠壓機進行連續擠壓操作，使用防氧化冷卻循環裝置使所述坯料冷卻至室溫。
3.根據權利要求2所述的平面靶材的制備方法，其特征在于，所述連續擠壓機內設有擠壓輪、和擠壓模具，所述擠壓輪轉速為2-3r/min;
所述擠壓模具包括上模具(41)和下模具(42)，所述上模具(41)和下模具(42)可拆卸連接，形成模具入口(43)和模具出口，所述上模具(41)與下模具(42)之間設有相互契合為半圓形的上支凸起結構(44)和下支凸起結構(45)，所述上支凸起結構(44)和下支凸起結構(45)之間存有矩形間隙;所述擠壓模具出口處設有不等寬斜面。
4.根據權利要求1所述的平面銅靶材的制備方法，其特征在于，在步驟S1中，使用上引連鑄法制備高純無氧銅桿，具體操作為：以電解銅為生產原料，將原料投入熔煉爐中，通入惰性保護氣體，采用上引連鑄爐用無氧銅住坯結晶器進行無氧銅桿的成型。
5.根據權利要求1所述的平面銅靶材的制備方法，其特征在于，在步驟S6中，使用數控機床進行機加工操作，包括：粗盤面、粗銑、倒角、精銑和精盤面，其中粗盤面、粗銑和倒角中單次銑削吃刀量低于0.2mm，精銑和精盤面中單次吃刀量為0.05mm。
6.一種應用權利要求1-5中任一項所述的平面銅靶材的磁控濺射方法，其特征在于，包括：
步驟1：將銅靶材與背板結合，得到濺射靶材，再測量背板底面的平整度，并對該濺射靶材進行探傷;
步驟2：對合格后的濺射靶材進行粗打磨處理，并對該濺射靶材上非預噴砂區域進行防護;
步驟3
聲明：
“平面銅靶材的制備方法及應用其的磁控濺射方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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編輯：中冶有色網
來源：蕪湖映日科技股份有限公司
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2025年07月09日 ~ 11日 
