本發明提供了一種指紋傳感器及其制造方法。該指紋傳感器包括:一金屬導電層;一界面介電層,形成于金屬導電層的上方;一金屬氧化物層,形成于金屬導電層的上方;一富硅介電層,形成于金屬氧化物層的上方,富硅介電層用以感測光線而產生光電流;以及一透明導電層,形成于富硅介電層的上方。相比于現有技術,本發明在富硅介電層的下方增設一金屬氧化物層,利用該金屬氧化物層作為緩沖來降低暗電流,進而增加指紋傳感器的靈敏度。此外,本發明采用化學氣相沉積工藝形成富硅介電層時可同步對金屬導電層進行等離子體表面處理從而形成金屬氧化物層,因此并不會增加原有的PEP數目。
聲明:
“指紋傳感器及其制造方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)