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可以降低InAs/GaSb超晶格長波紅外探測器暗電流的表面鈍化方法

1167   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 07:29:08
本發明公開了一種可以降低InAs/GaSb超晶格長波紅外探測器暗電流的表面鈍化方法，其步驟如下：步驟1：取一襯底；步驟2：在襯底上生長GaAs緩沖層；步驟3：在GaAs緩沖層上生長p型GaSb緩沖層；步驟4：在GaSb緩沖層上生長p型InAs/GaSb超晶格層、InAs/GaSb超晶格吸收層、n型InAs/GaSb超晶格層、InAs蓋層；步驟5：采用標準光刻工藝技術及感應耦合等離子體刻蝕技術刻蝕露出p型InAs/GaSb超晶格層；步驟6：在p型InAs/GaSb超晶格層和InAs蓋層上利用磁控濺射技術沉積合金電極Ti/Pt/Au，并用丙酮溶液進行金屬剝離、清洗；步驟7：在剝離、清洗后的基片上，利用感應耦合等離子體化學氣相沉技術在75℃下生長SiO2高質量絕緣層薄膜，然后刻蝕露出電極，最后封裝、測試。本方法可以減小器件暗電流，提高器件性能。
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“可以降低InAs/GaSb超晶格長波紅外探測器暗電流的表面鈍化方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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