本文的實施方式提供了一種用于在諸如等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)工藝之類的等離子體增強沉積工藝期間直接地監測襯底的溫度的襯底溫度監測系統。在一個實施方式中,一種襯底支撐組件包括:支撐軸;襯底支撐件,所述襯底支撐件設置在所述支撐軸上;以及襯底溫度監測系統,所述襯底溫度監測系統用于測量待設置在所述襯底支撐件上的襯底的溫度。所述襯底溫度監測系統包括光纖管、耦接到所述光纖管的光導、以及圍繞所述光纖管和所述光導的接合處設置的冷卻組件。在本文中,所述光導的至少一部分設置在延伸穿過所述支撐軸并進入所述襯底支撐件的開口中,并且所述冷卻組件在襯底處理期間維持所述光纖管處于低于約100℃的溫度。
聲明:
“在高溫陶瓷加熱器上的集成襯底溫度測量” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)