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化學氣相沉積裝置及其溫控方法

857   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
2023-03-19 07:02:27
一種化學氣相沉積裝置,包括:反應腔;設置于所述反應腔底部的基座,用于支撐一個或多個待處理基片;用于加熱所述基座與基片的加熱單元;設置于所述反應腔頂部的氣體噴淋組件,包括第一進氣裝置和第二進氣裝置,所述氣體噴淋組件與所述基座之間形成反應區;設置于氣體噴淋組件上用于封閉反應腔并包含冷卻裝置的蓋體;所述蓋體和所述氣體噴淋組件之間形成有狹縫;第一溫度測量裝置,用于測量氣體噴淋組件溫度;溫控供氣裝置,用于對A與B兩種氣體進行配比并根據測量的氣體噴淋組件溫度供應配比后的氣體至所述狹縫。本發明通過調節氣體噴淋組件與反應腔體冷卻部件間的氣體比例,實現氣體噴淋組件溫度的精確控制。
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