本實用新型涉及半導體制造技術領域,尤其涉及一種檢測窗口的保護裝置及一種化學氣相沉積機臺,一對檢測窗口設置于連接反應腔室的一氣體傳輸管道的兩側,在反應腔室啟動一清潔程序時,一檢測裝置通過一對檢測窗口檢測反應腔室內的氣體濃度,一對檢測窗口包括一第一檢測窗口和一第二檢測窗口;保護裝置用于將兩個檢測窗口與氣體傳輸管道內的氣體隔離,保護裝置包括:一第一隔離閥,設置于第一檢測窗口與氣體傳輸管道之間;一第二隔離閥,設置于第二檢測窗口與氣體傳輸管道之間。有益效果:使用兩個隔離閥可以使兩個檢測窗口完全隔離反應氣體,避免在不執行清潔程序時反應氣體附著在檢測窗口的表面,提高檢測窗口的使用壽命,以及提高清潔的效果。
聲明:
“檢測窗口的保護裝置及一種化學氣相沉積機臺” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)