一種選擇性降解環丙沙星光催化劑的制備方法,屬于材料制備及環境污染治理的技術領域。按照下述步驟進行:(1)ZnS半導體材料的水熱合成;(2)ZnS表面改性;(3)分子印跡聚合物光催化劑的制備;(4)將得到的固體粉末物質洗脫印跡聚合物中的模板分子。本發明的分子印跡聚合物光催化劑的光催化降解過程可以有效的實現對目標污染物選擇性識別、吸附并催化降解的目的,提高了對目標物質的有效降解的效率,具有較強的選擇性處理抗生素廢水的優點。
聲明:
“選擇性降解環丙沙星光催化劑的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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