本發明涉及一種硅晶片蝕刻廢水處理系統及處理方法,是在工作槽中利用HF溶液和HNO3溶液組成的混合酸蝕刻溶液對硅晶片進行蝕刻時所排出的H2SiF6溶液進行循環再利用,其特征在于,所排出的H2SiF6溶液通過酸再生與硅再生系統中的電解反應槽電解析出固體Si和酸性氣體HF,其中,所析出的固體Si被分離出并回收再利用,所析出的酸性氣體HF被水吸收后導入到所述工作槽中形成可回收利用的混合酸蝕刻溶液中的HF溶液。本發明實現了硅晶片蝕刻廢水循環利用,從而減少酸腐蝕溶液的消耗,消除酸腐蝕廢液的產生并避免有毒廢氣的排放,從而提供保護環境并提高了經濟效益。
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