本發明公開了一種提高工藝穩定性和水質的超純水的制備工藝,包括1級反滲透系統中電動比例閥和泵均由PLC系統控制;PLC系統監控UF超濾系統中超濾的出水SDI值和產水壓差,當SDI升高到一定值,進行反沖洗,當產水壓差達到一定值進行化學清洗;監控進入MB再生混床的原水的Ph值,調節進水Ph值;監控TOC的進出口電阻值,動態調節拋光樹脂罐體數量;監控系統的水溫溫差變化小于5℃;本發明提供的超純水工藝可以提高超純水系統的產水穩定性、減少工藝廢水的排放,提高系統的產水率,此外智能超純水工藝使超純水系統更加完善,滿足半導體行業對超純水系統更穩定,更可靠,水質更嚴苛的要求。
聲明:
“提高工藝穩定性和水質的超純水的制備工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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