本發明提供一種局部鍍膜散熱片加工方法,包括以下步驟:步驟(1).將需要鍍膜的金屬產品放置在氣密箱內;步驟(2).通過電子在電場作用下跟氬原子發生碰撞產生的正離子和新電子,氬正離子以高能量抨擊靶表面,將指定的金屬鍍材并從其表面分離出金屬鍍材的原子或分子,抨擊散射出的靶沉積在散熱片表面形成的薄膜;步驟(3).在金屬鍍膜空間外側設有位置控制磁場,控制鍍膜方向和位置。本發明方法純機器操作過程方便控制,鍍膜速率連續穩定,鍍膜方向可調整具有指向性,需要哪面電鍍就可哪面電鍍,沒有廢氣廢水產生。
聲明:
“局部鍍膜散熱片加工方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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