本發明中公開了一種羥肟酸型蒙脫土離子印跡材料及其制備方法和應用,該羥肟酸型蒙脫土離子印跡材料是以蒙脫土為載體,通過表面離子印跡技術和電子轉移活化原子轉移自由基聚合技術在蒙脫土表面嫁接羥肟酸基團,以金屬離子為模板,乙二醇二縮水甘油醚為交聯劑,對蒙脫土表面的羥肟酸基團進行金屬離子印跡,洗脫模板后制備得到。本發明的羥肟酸型蒙脫土離子印跡材料具有選擇性吸附量大、吸附效率高、性質穩定、無污染、重復利用性好等優點,其制備方法具有步驟簡單、操作方便、生產效率高等優點,將其用于處理重金屬廢水時具有操作簡單、處理成本低,對重金屬吸附效果好等優點。
聲明:
“羥肟酸型蒙脫土離子印跡材料及其制備方法和應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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