本發明公開了一種復合光催化劑MoS2/g?C3N4I及其制備方法和應用,所述復合光催化劑以含氮有機物和含碘化合物為前驅體,采用水浴?焙燒的方法合成了g?C3N4I,然后將此半導體材料與層狀二硫化鉬(MoS2)通過超聲復合制得復合光催化劑MoS2/g?C3N4I,所述制備方法簡單,條件易控,制得的復合光催化劑具有較高的光催化活性和抗光腐蝕能力,且能廣泛用于染料廢水的治理。
聲明:
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