一種所述的電子超純水的循環回用處理方法,它屬于水處理技 術,它包括如下工藝步驟:首先經過超濾系統過濾脫除懸浮性雜質雙 氧水氧化分解:在上述超濾后的廢水中中投加200-500ppm的雙氧水; 紫外線照射:將投入了雙氧水的污染水通過紫外光照射反應裝置,紫 外光的波長范圍是185-254nm,照射劑量是50-500J/m2,然后讓污染 水在水箱中停留20-60分鐘;反滲透:將經過充分氧化降解處理的廢 水泵入反滲透膜模塊或者納濾裝置中進行過濾;混床:將納濾或反滲 透處理后的水導入混床,脫除水中的帶電離子等雜質。采用本發明與 常規有臭氧參加氧化脫除TOC的方法相比,工藝方法安全、簡潔,處 理完畢的清洗水可以再次回用做高端電子產品純水。
聲明:
“電子超純水的循環回用處理方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)