本發明公開了一種內嵌式被動元件結構,其包括有:一第一導電金屬層、一電阻層、一介電層、一支持層、一接著層與一第二導電金屬層。特別地,對本發明的內嵌式被動元件結構施予兩次顯影蝕刻處理之后,即可在該內嵌式被動元件結構上制作出同時包含至少一薄膜電阻元件、至少一薄膜電感元件與至少一薄膜電容元件的一電子線路。根據本發明的設計,所述電阻層為通過濺鍍技術所制成的合金、金屬或金屬化合物電阻膜。濺鍍的電阻層具有較佳的鍍層致密度與連續性,因此其面電阻的最低值可小于或等于5歐姆/口。同時,利用濺鍍技術制作的合金、金屬或金屬化合物電阻膜,亦能有效減少工業廢水的產生。
聲明:
“內嵌式被動元件結構” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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