本申請涉及工業廢水處理和資源回收利用技術領域,具體公開了一種集成電路行業含氟廢液資源化利用的方法,包括:測定含氟廢液中SiF62?、F?和SO42?的濃度;向含氟廢液中加入氫氧化鈉的水溶液進行一次中和反應,得一次處理廢液和氟硅酸鈉;向一次處理廢液中加入氫氧化鈉進行二次中和反應,得二次處理廢液和氟化鈉;二次處理廢液經過蒸發濃縮析出含有氟化鈉的沉淀物,得含有氟化鈉的沉淀物和三次處理廢液;向三次處理廢液中加入硝酸鈣,得固體廢料和四次處理廢液;四次處理廢液經過結晶得五次處理廢液和硝酸鈉。本申請將含氟廢液的有效成分轉化為可回收利用資源,解決含氟廢液對環境的污染問題,且處理成本低,資源化產品價值高。
聲明:
“集成電路行業含氟廢液資源化利用的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)