本發明內容提供了一種硅烷功能化剝層水滑石及其制備方法和應用,所述的硅烷功能化剝層水滑石是用N–(β–氨乙基)–γ–氨丙基三乙氧基硅烷(簡寫為KH–791)對剝層水滑石進行功能化修飾,其中KH–791與剝層水滑石單層板表面上的羥基通過Si–O–M(M代表水滑石上的金屬離子)鍵相鏈接。該材料對Cr3+、Mn2+、Fe2+、Co2+、Ni2+、Cu2+、Zn2+和Pb2+等過渡金屬離子具有吸附性能,可用于工業廢水中對這些過渡金屬離子的去除。本發明提供的制備方法原料易得、操作簡便、對設備要求低和安全性高。
聲明:
“硅烷功能化剝層水滑石及其制備方法和應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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