本發明公開了一種銅離子選擇分離膜及其制備方法,屬于膜材料制備科學與技術領域。具體是結合離子印跡技術和水熱合成法制備離子印跡介孔二氧化硅微球,隨后將其與PVDF共混,通過相轉化成膜方法將二氧化硅微球固定到聚偏氟乙烯(PVDF)膜孔上,制得對銅離子高吸附量、強選擇性的PVDF/SiO2復合膜。本發明充分發揮了銅離子印跡介孔二氧化硅的選擇性吸附特性以及PVDF膜的多孔、便于使用再生等優勢,既實現對銅離子的選擇性吸附,也方便了操作使用,防止SiO2在使用過程中聚集團聚。本發明制備的膜可廣泛用于重金屬離子廢水處理方面。
聲明:
“銅離子選擇分離膜及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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