本發明公開了一種印染廢水深度處理及回用工藝。該工藝為:廢水收集調節池+生化好氧系統+二沉池+三級絮凝沉淀+MBR膜生物反應器+袋式過濾器+反滲透膜系統;有機物通過生化好氧處理由大分子分解為小分子,方便反滲透膜對污水的分離純化,同時阻止有機物對膜元件的污堵;懸浮物、濁度通過二沉池+三級絮凝沉淀+MBR+袋式過濾器四級連續過濾,可以完全達到反滲透膜膜元件的進水要求。本發明工藝路線設計經濟合理,可大大減少印染廢水反滲透膜處理系統的污堵情況。
聲明:
“印染廢水深度處理及回用工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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