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半導體行業低濃度含銅廢水達標排放及高效沉降工藝

1087   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
2023-03-19 01:34:58
本發明是半導體行業低濃度含銅廢水達標排放及高效沉降工藝,包括以下工藝步驟:1)低濃度含銅廢水投加FeSO4溶液;2)斜板沉淀池底部管道混合器進口處投加氫氧化鈣溶液,廢水與斜板沉淀池回流的含鈣改質污泥發生反應;3)加入重捕劑進行鰲合反應;4)投加聚丙烯酰胺進行絮凝反應;5)污泥進入斜板沉淀池進行泥水分離,一部分污泥通過輸送至污泥儲槽,另一部分輸送至管道混合器,進行步驟2)。本發明的優點:針對廢水特性,采用FeSO4+重捕劑聯合,減少用量,工藝簡單,投資成本低廉,免去混凝劑投加,回流污泥添加氫氧化鈣,含水率低、密度高,加快污泥沉降,提高斜板沉淀池表面負荷,減少占地面積,不需設置污泥濃縮池。
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