本發明涉及一種高延伸高抗拉添加劑及其制備方法和使用方法,屬于電解鋰電銅箔技術領域。本發明以含硫基團的化合物作為光亮劑,它能夠形成亞銅配合物并吸附在銅沉積位點上,起催化促進沉積,從而在一定濃度內降低銅箔粗糙度,增大抗拉強度和延伸率;高抗劑中胺類有機物的存在可以促進陽離子在活性位點吸附,不飽和鍵增強吸附,增大陰極極化,從而使得在有對流的情況下,減小表面微觀輪廓起伏,降低表面粗糙度,增大抗拉強度和延伸率;硫脲類衍生物也具有促進沉積的效果,降低銅箔表面粗糙度,增大抗拉強度和延伸率。
聲明:
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