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{010}高能晶面暴露BiOCl納米片材料的制備方法及其應用

628   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 00:23:43
本發明涉及一種{010}高能晶面暴露BiOCl納米片材料的制備方法及其應用。本發明按一定比例將鉍源、氯源和堿源混合均勻，將高能球磨的機械力同步作用于化學反應，然后在200～600℃下熱處理，再經過洗滌除雜、固液分離、干燥制備出BiOCl納米片材料。所制備的BiOCl材料由厚度為5～50nm、邊長為150～250nm的納米片組成，{010}晶面暴露程度為60～90％。本發明具有制備工藝簡單、易實現工業化生產、制造工藝成本低、環境友好等優勢。所制備的{010}高能晶面暴露BiOCl納米片材料在超級電容器、堿性二次電池、鋰離子電池、光催化劑、珠光顏料、醫藥等領域具有廣泛應用。
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