一種基于光刻和化學機械拋光的薄膜微光學結構的制備方法,包括在薄膜表面鍍金屬層、光刻選擇性去除金屬膜、化學機械拋光以及化學腐蝕等步驟。本發明方法制備的片上微光學器件具有極高的表面光潔度,極低的光學損耗。該方法適用于各種片上薄膜(包含但不限于鈮酸鋰單晶薄膜、石英薄膜、硅薄膜、二氧化硅薄膜、金剛石薄膜等)上制備高品質的微光學結構(包含但不限于微盤腔、微環腔、光波導及其耦合器件)。
聲明:
“基于光刻和化學機械拋光的薄膜微光學結構的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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