本發明公開了一種基于鈮酸鋰電壓調控的拓撲邊界態及諧頻產生的裝置。將鈮酸鋰按照特定的間隔周期在自由空間中進行有序排列。通過在鈮酸鋰左右兩側分別加正、負電壓,利用電光調制效應,可以使鈮酸鋰材料的折射率發生改變。與之前研究不同的是,非線性光學效應的增強是由于拓撲結構在邊界具有強的局域場。另外,此結構產生的拓撲邊界態成等差數列均勻分布,這就意味著當基頻光處于其中一個邊界模式時,諧頻光也處于拓撲邊界態的模式,這便使得所有產生的諧頻光對結構中的雜質或缺陷免疫并且沒有背向散射,結構受拓撲保護。這種基于拓撲保護態的非線性光學效應,為高次諧波產生和其他非線性光學效應的生成提供了一種新的途徑。
聲明:
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