本發明公開了一種2H相單層二硫化鉬納米片的制備方法,具體步驟為:將硫代鉬酸銨和鋰鹽化合物按1 : 2摩爾比混合研磨,研磨后的混合物在惰性氣體保護下于200?400℃保溫1?10h,冷卻至室溫得到插鋰的2H相硫化鉬塊體;將插鋰的2H相硫化鉬塊體置于去離子水中,輔助超聲水解剝離5?30min,再將得到的懸浮液置于離心機中,經離心分離去除未剝離的沉淀物后得到2H相單層MoS2納米片懸浮液;將2H相單層MoS2納米片懸浮液在離心機上分別用水和乙醇離心洗滌去除可溶性雜質,最后將沉淀物2H相單層MoS2納米片分散于小分子溶劑中保存,該2H相單層MoS2納米片的厚度小于1nm。本發明工藝操作簡單,反應條件溫和,所用試劑價格低廉,綠色環保。
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