本發明提供了一種工作點自穩定型薄膜鈮酸鋰馬赫曾德爾電光調制器,通過設置的調制臂位于2×2MMI結構和1×2分光結構之間,上下調制臂設計完全對稱,調制臂兩側具有對稱設計的調制電極起信號加載的作用,對稱的電極結構也保證了馬赫曾德爾干涉結構上下臂之間不會引入相位差,光從所述2×2MMI結構的一個輸入端口或者所述1×2分光結構進入,由于所述2×2MMI結構的自映像效應,會引入π/2的相位差,使得調制器的工作點自動穩定在3dB工作點,而無需施加其他控制裝置進行工作點的調整與穩定,且工作點不隨時間與溫度等外界因素影響,可以長期穩定在線性工作區中心位置保持不動。
聲明:
“工作點自穩定型薄膜鈮酸鋰馬赫曾德爾電光調制器” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)