本發明涉及一種用于硅太陽能電池的雙層減反射膜的制備方法,屬于新能源材料技術領域。本發明采用聚氨酯丙烯酸酯改性SiO2薄膜,聚氨酯丙烯酸酯具有氨酯鍵,其特點是高聚物分子鏈間能形成多種的氫鍵,具有高耐磨性、粘附力、柔韌性、高剝離強度和優良的耐低溫性能以及聚丙烯酸酯卓越的光學性能和耐候性,使得改性后的第二層減反射膜具有優異的機械耐磨性和柔韌性,斷裂伸長率高;本發明利用銀鏡反應并結合退火處理在基底表面制備銀納米粒子作為第一層減反射膜,呈隨機分布的銀納米顆粒的形成是金屬熱力學和動力學共同作用的結果,當快速退火時,銀膜系統獲得足夠的動能,趨向于表面積較小的納米顆粒結構。
聲明:
“用于硅太陽能電池的雙層減反射膜的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)