一種聚3?己基噻吩/自摻雜富缺陷氧化錫異質結納米復合光催化材料的制備方法。將自摻雜富缺陷氧化錫異質結材料通過化學鍵絡合的形式負載分散于P3HT而得到的納米復合材料;自摻雜富缺陷氧化錫選自Sn摻雜的非化學計量比或混合價態錫氧化物組成的富缺陷氧化錫SnO2?x;本發明利用自摻雜富缺陷氧化錫的可見光光催化氧化還原特性、聚?3己基噻吩的導電性和可見光催化能力,以及不同組分間具有化學鍵合的異質結結構,來充分抑制其光催化反應中的光生電子?空穴復合,從而有利于提高其光催化氧化還原降解污染物和光催化分解水產氫的性能。同時,聚3?己基噻吩易塑型的特點能有效避免粉體材料的回收困難問題。
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