本發明涉及一種雙周期多層TaC/HfC超高溫陶瓷抗燒蝕涂層及制備方法,目的為了提高現有超高溫陶瓷涂層的抗燒蝕性能。技術方案是采用低壓化學氣相沉積(LPCVD)技術一步可在碳/碳復合材料表面制備出多層交替的TaC/HfC超高溫陶瓷抗燒蝕涂層。TaC和HfC雙周期多層結構不僅可以抑制裂紋的萌生和擴展;燒蝕過程中還可形成一種具有致密結構的Hf?Ta?O的固溶氧化層。與單層結構相比,所制備出的雙周期多層TaC/HfC涂層在氧乙炔燒蝕環境下具有更加優異的抗燒蝕性能。
聲明:
“雙周期多層TaC/HfC超高溫陶瓷抗燒蝕涂層及制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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